材料工程碩士論文提綱格式

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材料工程碩士論文提綱格式3篇

　　材料工程碩士論文提綱格式一

　　摘要 4-5

材料工程碩士論文提綱格式3篇

　　ABSTRACT 5-6

　　目錄 7-10

　　第一章緒論 10-24

　　1.1 引言 10

　　1.2 納米材料的定義及維度分類 10-11

　　1.3 納米晶的基本性質 11-12

　　1.4 II-VI 族鎘基半導體簡介 12-16

　　1.4.1 II-VI 族半導體簡介 12-13

　　1.4.2 鎘基半導體介紹 13-16

　　1.5 II-VI 族半導體納米晶的光電應用 16-22

　　1.5.1 II-VI 族半導體納米晶的太陽能電池應用 16-20

　　1.5.2 II-VI 族半導體納米晶的光探測器應用 20-22

　　1.6 本論文的'研究思路和創新之處 22-24

　　第二章實驗原料與實驗裝置 24-34

　　2.1 實驗原料 24-25

　　2.2 實驗裝置 25-27

　　2.2.1 超聲波清洗器(SK2200LH) 25

　　2.2.2 電子天平 25

　　2.2.3 真空干燥箱 25-26

　　2.2.4 拉膜機 26

　　2.2.5 馬弗爐 26

　　2.2.6 真空管式爐 26

　　2.2.7 移液槍 26-27

　　2.2.8 Keithley2611 數字源表 27

　　2.2.9 離心機 27

　　2.3 表征手段 27-29

　　2.3.1 表面形貌表征(SEM) 27

　　2.3.2 成分分析(EDS) 27

　　2.3.3 結晶相分析(XRD) 27-28

　　2.3.4 微觀結構分析(TEM) 28

　　2.3.5 紫外-可見分光光度計(UV-1901) 28

　　2.3.6 電池/光響應性能測試系統 28-29

　　2.4 實驗方法 29-34

　　2.4.1 FTO 的清洗 29

　　2.4.2 水熱法制備 CdS 量子點 29

　　2.4.3 水熱法制備 PS 微球 29-30

　　2.4.4 真空自組裝法制備多孔密堆 CdS 量子點結構 30

　　2.4.5 水熱法制備 ZnO 納米線 30-31

　　2.4.6 電沉積法制備 CdS 納米晶 31-32

　　2.4.7 電沉積法制備 CdSe 納米晶 32

　　2.4.8 CVD 法生長 Cd 納米片陣列 32

　　2.4.9 氣相轉化法制備 CdTe 納米片陣列 32-34

　　第三章高導電性三維多孔結構 CdS 量子點太陽能電池 34-47

　　3.1 引言 34-35

　　3.2 實驗過程 35

　　3.3 結果及討論 35-46

　　3.3.1 三維多孔密堆 CdS 陽極的制備 35-36

　　3.3.2 電沉積后處理 CdS 骨架改善陽極導電性 36-44

　　3.3.3 電沉積后處理 CdSe 提升光電轉換性能 44-46

　　3.4 本章小結 46-47

　　第四章 CdTe 納米片層陣列的氣相模板法制備及光響應性能 47-60

　　4.1 引言 47-48

　　4.2 實驗過程 48

　　4.3 結果及討論 48-58

　　4.3.1 鎘納米片陣列的 CVD 法制備及表征 48-49

　　4.3.2 碲化鎘納米片陣列的模板法制備及表征 49-51

　　4.3.3 不同處理工藝對產物形貌、物相的影響比較 51-54

　　4.3.4 普通升溫(NH)與快速升溫(PIH)作用區別的比較 54-55

　　4.3.5 CdTe 納米結構的光電性能比較 55-58

　　4.4 本章小結 58-60

　　第五章電沉積參數對 CdSe 敏化太陽能電池光電轉換效率的影響 60-74

　　5.1 引言 60-61

　　5.2 實驗過程 61

　　5.3 結果及討論 61-72

　　5.3.1 ZnO NWs/CdS/CdSe 三元電池結構的制備及表征 61-65

　　5.3.2 電沉積 CdS 時間的優化 65-66

　　5.3.3 電沉積制備 CdSe 敏化層薄膜工藝參數的優化 66-72

　　5.4 本章小結 72-74

　　第六章全文總結 74-75

　　參考文獻 75-82

　　發表論文和參加科研情況說明 82-83

　　致謝 83-84

　　材料工程碩士論文提綱格式二

　　摘要 4-5

　　ABSTRACT 5

　　第一章緒論 8-20

　　1.1 熱噴涂技術的分類及特點 8-9

　　1.2 超音速火焰噴涂技術(HVOF)的工作原理和發展歷程 9-13

　　1.2.1 超音速火焰噴涂技術的工作原理 9-10

　　1.2.2 超音速火焰噴涂技術的發展歷程和現狀 10-13

　　1.2.3 HVOF 噴涂的應用和前景 13

　　1.3 WC-Co 金屬陶瓷涂層 13-18

　　1.3.1 WC 的性質 13-14

　　1.3.2 Co 的性質 14-15

　　1.3.3 用于熱噴涂的 WC-Co 金屬陶瓷粉末制備方法 15-16

　　1.3.4 WC-Co 涂層的應用 16-17

　　1.3.5 HVOF 噴涂 WC-12Co 的研究現狀 17-18

　　1.4 本課題的背景、意義及主要研究內容 18-20

　　第二章 WC-12Co 涂層磨損機理的研究 20-31

　　2.1 實驗部分 20-24

　　2.1.1 實驗材料與涂層的制備 20-22

　　2.1.2 涂層孔隙率的測試 22-23

　　2.1.3 涂層顯微硬度測試 23

　　2.1.4 摩擦實驗與顯微分析 23-24

　　2.2 結果與討論 24-30

　　2.2.1 涂層組織結構 24-25

　　2.2.2 涂層的物相分析 25-26

　　2.2.3 涂層的摩擦磨損性能 26-28

　　2.2.4 摩擦機理討論 28-30

　　2.3 小結 30-31

　　第三章 Al 元素機械合金化的 WC-12Co 粉末和涂層的制備 31-41

　　3.1 機械合金化與球磨 32-39

　　3.1.1 機械合金化的發展概況 32-33

　　3.1.2 機械合金化球磨裝置及其磨碎機理 33-35

　　3.1.3 行星球磨機的公轉速度、填充系數和球料比對球磨的影響 35

　　3.1.4 WC-12Co 粉末和 Al 粉末的`球磨機理 35-37

　　3.1.5 WC-12Co-3Al 噴涂粉末的制備 37-39

　　3.2 WC-12Co-3Al 涂層的制備 39-40

　　3.2.1 噴涂前的預處理 39

　　3.2.2 WC-12Co-3Al 涂層的制備 39-40

　　3.3 結論 40-41

　　第四章 WC-12Co-3Al 涂層的性能研究 41-52

　　4.1 WC-12Co-3Al 粉末的分析 41-43

　　4.2 WC-12Co-3Al 涂層的分析 43-51

　　4.2.1 WC-12Co-3Al 涂層的物相分析 43-44

　　4.2.2 WC-12Co-3Al 涂層顯微結構分析 44-46

　　4.2.3 WC- 12Co-3Al 涂層耐磨損性能分析 46-50

　　4.2.4 WC-12Co-3Al 涂層的熱處理 50-51

　　4.3 小結 51-52

　　第五章結論 52-53

　　參考文獻 53-57

　　發表論文和參加科研情況說明 57-58

　　致謝 58

　　材料工程碩士論文提綱格式三

　　摘要 4-5

　　Abstract 5

　　1 緒論 9-17

　　1.1 引言 9

　　1.2 黑化技術的發展及趨勢 9-15

　　1.2.1 熱堿發藍 9-10

　　1.2.2 常溫發黑 10-12

　　1.2.3 黑色磷化 12-13

　　1.2.4 QPQ 工藝 13

　　1.2.5 真空離子鍍黑色 Ti-N 膜技術 13-14

　　1.2.6 化學復合鍍黑鎳技術 14

　　1.2.7 急冷發黑處理 14-15

　　1.3 課題研究的目的、意義和研究內容 15-17

　　1.3.1 課題研究的目的和意義 15

　　1.3.2 課題研究內容 15-17

　　2 實驗部分 17-25

　　2.1 實驗材料和儀器 17-18

　　2.1.1 實驗基材 17

　　2.1.2 實驗試劑及儀器 17-18

　　2.2 實驗方法 18-19

　　2.2.1 黑色磷化工藝流程 18

　　2.2.2 QPQ 工藝流程 18-19

　　2.2.3 常溫發黑工藝流程 19

　　2.2.4 急冷發黑工藝流程 19

　　2.3 各工序的基本作用 19-21

　　2.3.1 噴砂 20

　　2.3.2 表調 20

　　2.3.3 黑色磷化 20

　　2.3.4 皂化封閉 20

　　2.3.5 去油 20-21

　　2.3.6 酸洗 21

　　2.3.7 氮化 21

　　2.3.8 氧化 21

　　2.3.9 發黑 21

　　2.3.10 急冷發黑 21

　　2.4 磷化液分析及表面膜層性能測試 21-25

　　2.4.1 磷化液分析 21-22

　　2.4.2 外觀檢測 22

　　2.4.3 黑化膜耐蝕性測試 22-23

　　2.4.4 機械強度測試 23

　　2.4.5 HRC 硬度檢測 23

　　2.4.6 黑化膜層表面形貌觀察 23

　　2.4.7 黑化膜 XRD 分析 23-25

　　3 黑色磷化工藝研究 25-31

　　3.1 表調工藝對黑化膜的`影響 25-27

　　3.1.1 表調時間對黑化膜的影響 25-26

　　3.1.2 表調溫度對黑化膜的影響 26

　　3.1.3 表調劑濃度對黑化膜的影響 26-27

　　3.2 磷化工藝對黑化膜的影響 27-29

　　3.2.1 游離酸及總酸的影響 27

　　3.2.2 磷化液濃度的影響 27-28

　　3.2.3 磷化溫度的影響 28-29

　　3.2.4 磷化時間的影響 29

　　3.3 小結 29-31

　　4 QPQ 處理工藝探索 31-35

　　4.1 氮化溫度對黑化膜的影響 31

　　4.2 氧化溫度對黑化膜的影響 31-32

　　4.3 氧化時間對黑化膜的影響 32-33

　　4.4 小結 33-35

　　5 其它發黑工藝研究 35-45

　　5.1 常溫發黑工藝 35-36

　　5.1.1 發黑劑濃度對黑化膜的影響 35

　　5.1.2 發黑時間對黑化膜的影響 35-36

　　5.2 急冷發黑工藝 36-37

　　5.2.1 冷卻液對黑化膜的影響 36-37

　　5.3 復合表面處理技術 37-43

　　5.3.1 常溫發黑后黑色磷化與黑色磷化后常溫發黑 37-38

　　5.3.2 預發黑→黑色磷化復合工藝研究 38-43

　　5.4 小結 43-45

　　6 粉末注射件磷化發花試樣與復合處理合格試樣對比分析 45-57

　　6.1 XRD 檢測 45-48

　　6.2 表面形貌和成分 48-55

　　6.3 小結 55-57

　　7 結論 57-59

　　參考文獻 59-61

　　致謝 61-63

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